Lithography 재료

다우 전자 재료는 30년 이상의 경험과 Lithography 기술 혁신을 통해 Lithography 재료 업계를 선도하고 있습니다. 다우는 포지티브 톤 g-Line 및 i-Line 감광재와 관련 보조물 등 LED 시장에 필요한 전문 기술력을 확보하고 있습니다. 이러한 재료는 LED 제조 공정 중 PSS(Pattern Sapphire Substrate) 공정, 포지티브 톤 및 네거티브 톤 Lithography 공정 등과 같은 이미징 공정 단계에 이상적인 제품입니다.

다우의 LED 감광재는 다음의 중요한 성능 기준을 충족시킵니다.

  • 고해상도
  • 탁월한 내식각성
  • 넓은 초점 심도
  • 열 안정성

다우의 Lithography 재료는 반도체와 화합물 반도체 제조 공정에서 요구하는 엄격한 품질 기준에 따라 생산되고 있습니다.

1 μm 피처, 3 μm 필름 두께, i-Line 파장

0.350 μm 피처, 12,000Å 필름 두께, i-Line 파장